تفاوت بین اکسیداسیون آندی معمولی و اکسیداسیون آندی سخت

تفاوت بین اکسیداسیون آندی معمولی و اکسیداسیون آندی سخت

تفاوتهای زیر در عملکرد و پوشش وجود دارد:

تفاوت در شرایط عملیاتی عبارتند از:

1. دمای اکسیداسیون آندی معمولی در حدود 18-22 ℃ است ، و با افزودنیها می توانند به 30 ℃ برسند. اگر درجه حرارت خیلی زیاد باشد ، پودر یا ترک به راحتی ظاهر می شود. اکسیداسیون آندی سخت به طور کلی زیر 5 ℃ است و هرچه دمای پایین تر باشد ، اکسیداسیون آندی سخت بیشتر است.

2 اختلاف غلظت: اکسیداسیون آندی معمولی حدود 20 ٪ است و اکسیداسیون آندی سخت به طور کلی 15 ٪ یا کمتر است.

3. اختلاف جریان / ولتاژ: چگالی جریان اکسیداسیون آندی معمولی: 1-1.5A / DM2 ؛ اکسیداسیون آندی سخت: 1.5-3a/dm2

تفاوت در خصوصیات فیلم:

1. ضخامت فیلم: به طور کلی ، ضخامت فیلم اکسیداسیون آندی سخت بیش از 15 میکرومتر است ، اگر ضخامت خیلی کم باشد ، نیازهای سختی را برآورده نمی کند. ، در حالی که ضخامت فیلم اکسیداسیون آندی معمولی نسبتاً نازک است.

2. حالت سطح: سطح اکسیداسیون آندی معمولی نسبتاً مسطح است ، در حالی که سطح اکسیداسیون سخت نسبتاً خشن است.

3. تخلخل مختلف: تخلخل اکسیداسیون آندی معمولی زیاد است ، در حالی که تخلخل اکسیداسیون آندی سخت کم است.

4- موارد مختلف کاربرد: اکسیداسیون آندی معمولی عمدتاً برای دکوراسیون استفاده می شود ، در حالی که اکسیداسیون آندی سخت عمدتاً برای عملکرد استفاده می شود ، که به طور کلی برای موارد مقاوم در برابر سایش و برقی استفاده می شود.